某互动平台“出口到光刻机”的回复，触发了苏大威格(300331)股价的20CM涨停。SZ)然后引来一封关注信。
9月14日午休期间，苏大威格在互动平台回复投资者称“公司光刻机已实现向国内领先芯片公司销售，已实现向日本、韩国、以色列等国家出口；同时，公司在光刻机方面向国内相关芯片厂商提供定位光栅尺组件。”以及“已经关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域的应用潜力，并积极部署”。
在光刻机概念的火热阶段，苏大威格在当天下午开盘后迅速拉升，直至20%的涨停，成交金额15.55亿元，换手率25.89%。
质疑声也纷至沓来。据悉，苏大威格的光刻机并不是真正意义上的大众光刻机，苏大威格的光刻机是直接用激光写入光刻机，在技术和材料上的难度远低于可用于各种芯片量产的掩膜版光刻。
根据AVIC证券的研究报告，泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中直写光刻精度较低，多用于IC背面封装、低世代线平板显示、PCB等领域；目前掩模光刻的主要形式是投影，具有很高的光刻精度。可用于IC制造的第一道工序，第二道工序的高级封装，中高世代线的FPD生产。
9月14日晚，苏大伟哥再次在互动平台回复，明确公司对外销售的光刻机主要是用激光直接在光刻机上刻字。
苏大伟哥讲解了两类光刻机，并提到目前公司销售的光刻机主要是激光直写光刻机，在科研教育领域有一定的市场份额。在纳米压印光刻领域，公司设备以自用为主，国外销量小于直写光刻机。此外，公司还开发了投影扫描光刻设备，拟用于光伏电镀铜图形化领域，但尚未销售。
虽然苏大伟哥很快进一步解释，但9月15日上午，苏大伟哥还是收到了深交所的关注函。监管要求苏大威格结合不同类型光刻设备技术路线的差异，补充披露所生产的光刻设备的具体类型、主要客户和下游用途，并核实其光刻设备是否可直接用于芯片R&D和制造，主要技术参数是否与行业领先厂商存在较大差异。
此外，监管要求苏大威格详细说明纳米压印技术的具体用途、研发情况及其在集成电路领域的布局。按照要求，苏大为需要在2023年9月22日前回复关注函。
值得一提的是，关注函中使用的概念是“光刻设备”，而不是“光刻机”。此前有消息称，苏大伟哥在2023年半年报中的表述与9月14日在互动平台上的表述类似，其中也提到了“光刻设备”。半年报中提到，公司的光刻设备已出售给国内一家领先的芯片企业，并为国内厂商提供定位光栅尺产品，该产品是ic芯片投影光刻机使用的核心部件。
因此，业内人士指出，将“光刻机”直接写在“光刻设备”上是不专业的，不排除是有意为之。
9月15日，苏大威格证券部人士告诉编辑，半年报和年报中已经使用了“光刻机”的表述。在今年的半年报中，公司也明确提到“公司是国内领先的微纳结构产品制造商和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机”等。，公司在年报、半年报、互动平台中明确了掩膜版光刻机、芯片掩膜版光刻机等表述。

来源:苏大维格半年报。

该人士进一步表示，也收到了交易所的关注函，公司会尽快核查并正面回复。
二级市场上，关注信难以抵消上涨趋势。截至9月15日午盘，苏大威格继续上涨13.13%，收于37.47元/股，市值较9月13日暴涨25.66亿元，股价创今年以来新高。"